Halbleiter

Brays umfassendes Angebot an Armaturen, Antrieben und Zubehör wurde für anspruchsvolle Anwendungen in Halbleiter-Wafer-Fabriken entwickelt und hat sich in der Praxis bewährt, wo spaltfreie Oberflächen bis zu 5 RA, garantierte Passivierung der benetzten Oberflächen und Zuverlässigkeit für den Chip-Herstellungsprozess von entscheidender Bedeutung sind. Die speziellen PFA-ausgekleideten Absperr- und Regelarmaturen von Bray eignen sich ideal für Nassprozessflüssigkeit und reduzierte Partikelabgabe bei der Herstellung der nächsten Generation von Sub-10-nm-Mikrochips.   

Lösungen von Bray für

Wenn die Lithographie unter 10 nm schrumpft, wird der Bedarf an Reinstwasser für den Wafer-Herstellungsprozess extrem wichtig. Reinstwasser (Ultrapure Water, UPW) ist Wasser, das nach extrem strengen Spezifikationen gereinigt wurde, um eine bestimmte Zusammensetzung und Eigenschaften zu erreichen. Reinstwasser wird erzeugt, indem hochreines Wasser durch ein „Polishing-System“ mit ultrahochreinen Rohrleitungen, auch bekannt als pvdf-Rohrleitungen, verarbeitet wird, um Verunreinigungen, Mineralien, Mikroorganismen und Spuren von organischen und anorganischen Chemikalien zu entfernen und Wasser in Spezifikationsqualität für die Verwendung in der Wafer-FAB zu liefern. Gemäß der Definition von SEMI F63 für die in der Halbleiterfertigung verwendete UPW-Klasse ist das Bray-Produktportfolio so konzipiert, dass es die strengsten Industrieanforderungen gemäß SEMI F104 und F54 erfüllt oder übertrifft. Bray Halbleiterarmaturen werden in Brays Reinräumen gereinigt, verpackt und etikettiert, um sicherzustellen, dass die Armaturen diese strengen Anforderungen erfüllen.  Bray-Armaturen finden sich in UPW-Polierlösungen, Lager- und Verteilungssystemen, einschließlich Wafer-Reinigung, -Spülung, -Oberflächenkonditionierung, Nassätzung, Lösungsmittelprozess und chemisch-mechanischer Planarisierung.

Lösungen von Bray für

Deionisierung („DI-Wasser“ oder „Demineralisierung“) bedeutet einfach die Entfernung von Ionen. Deionisiertes Wasser (DI-Wasser, DIW oder de-ionisiertes Wasser), oft synonym mit demineralisiertem Wasser/DM-Wasser, ist Wasser, dem fast alle Mineralionen entzogen wurden, z. B. Kationen wie Natrium, Kalzium, Eisen und Kupfer sowie Anionen wie Chlorid und Sulfat. Deionisiertes Wasser ist Wasser, dem 99 % aller Mineralionen entzogen wurden, wodurch ein bakterienfreies, gereinigtes Wasser entsteht. Deionisiertes Wasser wird in der Regel mit Hilfe eines elektrisch geladenen Ionenaustauschverfahrens hergestellt, z. B. in einem Ionenaustauscher-Tank, der auch als Mischdeionisierungstank oder Ionenaustauscherharz-Tanksystem bezeichnet wird.  Es werden mehr als 6000 Gallonen deionisiertes Wasser (DI) benötigt, um einen einzigen 300-mm-Wafer in einer Halbleiterfabrik zu bearbeiten. Es werden 4–6 Gallonen städtisches Rohwasser benötigt, um eine Gallone deionisiertes Wasser zu erzeugen.

Lösungen von Bray für

Wassermanagement ist für die Halbleiterindustrie unerlässlich. In der Halbleiterherstellung sind die Anlagen auf Reinstwasser (UPW) für die Wafer-Bearbeitung angewiesen. Nach der Nutzung wird das UPW-Wasser als Abwasser aus dem System abgeleitet. Die Abwässer enthalten üblicherweise gefährliche Chemikalien und Metallionen wie Cyanid, Pyrazol, Piranhasäure, Peroxomonoschwefelsäure und andere giftige Verbindungen. Aufgrund der Toxizität des Abwassers muss es behandelt und wiederverwendet oder als reines, sauberes Wasser aus der Wafer-Fabrik abgeleitet werden. Bray-Armaturen für Wasserrückgewinnung, Abwasseraufbereitung, Recycling und Ableitung haben sich im Einsatz bewährt.