Optimieren Sie Halbleiterprozesse mit den ausgekleideten Armaturen von Bray

Halbleiterherstellung

Brays umfassendes Angebot an Armaturen, Antrieben und Zubehör wurde für anspruchsvolle Anwendungen in Halbleiter-Wafer-Fabriken entwickelt und hat sich in der Praxis bewährt, wo spaltfreie Oberflächen bis zu 5 RA, garantierte Passivierung der benetzten Oberflächen und Zuverlässigkeit für den Chip-Herstellungsprozess von entscheidender Bedeutung sind. Die speziellen PFA-ausgekleideten Absperr- und Regelarmaturen von Bray eignen sich ideal für Nassprozessflüssigkeit und reduzierte Partikelabgabe bei der Herstellung der nächsten Generation von Sub-10-nm-Mikrochips.

Zuverlässige Leistung in der Umkehrosmose und Wasserrückgewinnung

Garantiert Wasserreinheit in der Halbleiterherstellung

Von der Umkehrosmose bis zur Deionisierung bieten die Armaturen von Bray bei Halbleiteranwendungen Verlässlichkeit.

Lösungen von Bray für

Umkehrosmose

Halbleiterfabriken verbrauchen typischerweise täglich Millionen von Litern Wasser für eine Vielzahl von Anwendungen, von der Waferherstellung bis hin zu Anlagen und allgemeinen Versorgungseinrichtungen. Das wichtigste Verfahren zur Aufbereitung von hochreinem Wasser in der Wafer-Fabrik ist die Umkehrosmose. Zunächst wird das Rohwasser vorbehandelt, um Feststoffe zu entfernen, und dann durch Umkehrosmose aufbereitet, um organische Verbindungen zu entfernen. Das Reinstwasser aus der Umkehrosmoseanlage wird für die Verwendung in der gesamten Wafer-Fabrik gespeichert, während Nachfüllsysteme die Verluste ausgleichen. Umkehrosmosesysteme werden auch zur Abwasserrückgewinnung in der Wafer-Fabrik eingesetzt, bevor das Wasser abgeleitet oder zur Wiederverwendung recycelt wird. Bray-Armaturen, -Antriebe und -Zubehör werden in Umkehrosmose-Anwendungen für Halbleiter eingesetzt bei:

  • Prozess-Kühlwasser (PWC)

  • Hochreinheit

  • Wafer-Reinigung

  • Aufbereitungsanlagen

  • Abwasserrückgewinnung

  • Prozess-Kühlwasser

  • Anlagen für deionisiertes Wasser

Lösungen von Bray für

Reinstwasser

Wenn die Lithographie unter 10 nm schrumpft, wird der Bedarf an Reinstwasser für den Wafer-Herstellungsprozess extrem wichtig. Reinstwasser (Ultrapure Water, UPW) ist Wasser, das nach extrem strengen Spezifikationen gereinigt wurde, um eine bestimmte Zusammensetzung und Eigenschaften zu erreichen. Reinstwasser wird erzeugt, indem hochreines Wasser durch ein „Polishing-System“ mit ultrahochreinen Rohrleitungen, auch bekannt als pvdf-Rohrleitungen, verarbeitet wird, um Verunreinigungen, Mineralien, Mikroorganismen und Spuren von organischen und anorganischen Chemikalien zu entfernen und Wasser in Spezifikationsqualität für die Verwendung in der Wafer-FAB zu liefern. Gemäß der Definition von SEMI F63 für die in der Halbleiterfertigung verwendete UPW-Klasse ist das Bray-Produktportfolio so konzipiert, dass es die strengsten Industrieanforderungen gemäß SEMI F104 und F54 erfüllt oder übertrifft. Bray Halbleiterarmaturen werden in Brays Reinräumen gereinigt, verpackt und etikettiert, um sicherzustellen, dass die Armaturen diese strengen Anforderungen erfüllen. Bray-Armaturen finden sich in UPW-Polierlösungen, Lager- und Verteilungssystemen, einschließlich Wafer-Reinigung, -Spülung, -Oberflächenkonditionierung, Nassätzung, Lösungsmittelprozess und chemisch-mechanischer Planarisierung.

Lösungen von Bray für

Deionisiertes Wasser

Deionisierung („DI-Wasser“ oder „Demineralisierung“) bedeutet einfach die Entfernung von Ionen. Deionisiertes Wasser (DI-Wasser, DIW oder de-ionisiertes Wasser), oft synonym mit demineralisiertem Wasser/DM-Wasser, ist Wasser, dem fast alle Mineralionen entzogen wurden, z. B. Kationen wie Natrium, Kalzium, Eisen und Kupfer sowie Anionen wie Chlorid und Sulfat. Deionisiertes Wasser ist Wasser, dem 99 % aller Mineralionen entzogen wurden, wodurch ein bakterienfreies, gereinigtes Wasser entsteht. Deionisiertes Wasser wird in der Regel mit Hilfe eines elektrisch geladenen Ionenaustauschverfahrens hergestellt, z. B. in einem Ionenaustauscher-Tank, der auch als Mischdeionisierungstank oder Ionenaustauscherharz-Tanksystem bezeichnet wird. Es werden mehr als 6000 Gallonen deionisiertes Wasser (DI) benötigt, um einen einzigen 300-mm-Wafer in einer Halbleiterfabrik zu bearbeiten. Es werden 4–6 Gallonen städtisches Rohwasser benötigt, um eine Gallone deionisiertes Wasser zu erzeugen.

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Lösungen von Bray für

Wasserrückgewinnung

Wassermanagement ist für die Halbleiterindustrie unerlässlich. In der Halbleiterherstellung sind die Anlagen auf Reinstwasser (UPW) für die Wafer-Bearbeitung angewiesen. Nach der Nutzung wird das UPW-Wasser als Abwasser aus dem System abgeleitet. Die Abwässer enthalten üblicherweise gefährliche Chemikalien und Metallionen wie Cyanid, Pyrazol, Piranhasäure, Peroxomonoschwefelsäure und andere giftige Verbindungen. Aufgrund der Toxizität des Abwassers muss es behandelt und wiederverwendet oder als reines, sauberes Wasser aus der Wafer-Fabrik abgeleitet werden. Bray-Armaturen für Wasserrückgewinnung, Abwasseraufbereitung, Recycling und Ableitung haben sich im Einsatz bewährt.

Zertifiziert und bewährt

bei tausenden von Unternehmen weltweit

Zur Gewährleistung der Konformität unserer Produkte verfügt Bray über eine Vielzahl an weltweit geltenden Zertifizierungen und Zulassungen.

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