概述

半导体制造

博雷的阀门、执行机构和附件综合系列针对半导体晶圆厂的高要求应用而设计,并经过现场验证。在这类应用当中,无缝隙表面处理达到5RA,保证润湿表面的钝化,并且可靠性在芯片制造过程中至关重要。博雷的专用PFA带衬隔离和控制阀非常适合用于潮湿过程流体,并可在制造下一代亚10纳米微芯片时减少颗粒脱落。   
  质量
在我们的全球信誉服务支持下,请相信博雷会为半导体行业提供成熟的高质量解决方案。
  可靠性
博雷通过设计旨在提供优异可靠性的解决方案,在产品使用寿命方面赢得了卓越声誉。

博雷的解决方案包括

反渗透

半导体设备制造厂通常每天都会消耗数百万加仑的水,用于从晶圆制造过程到设施和一般公用事业的各种应用。用于制备晶圆厂高纯度水的主要处理过程是反渗透。原水首先要进行预处理,以去除固体物质,然后通过反渗透处理去除有机化合物。反渗透系统生成的高纯度水被储存起来,供整个晶圆厂使用,同时由补水系统补充损失的水量。在将水排放掉或进行回收利用之前,反渗透系统也用于晶圆厂的废水回收。博雷阀门、执行机构和附件用于半导体的反渗透应用,包括:
  • 过程冷却水(PWC)

  • 高纯

  • 晶圆清洗

  • 处理厂

  • 废水回收

  • 过程冷却水

  • 去离子水工厂

博雷的解决方案包括

超纯水

随着光刻技术精度缩小到10纳米以下,对超纯水的要求在晶圆制造过程中变得极为严格。超纯水(UPW)是按照极其严格的规格进行净化的水,以确立特定的成分和特性。超纯水是通过使用超高纯管道(也称为pvdf管道)的“抛光系统”来处理高纯水,以去除污染物、矿物质、微生物以及微量有机和无机化学品,并输出符合规格等级的水供晶圆厂使用。根据SEMI F63对用于半导体制造的UPW等级的定义,博雷产品系列旨在满足或超过SEMI F104和SEMI F54所要求的最严格的行业标准。博雷半导体专用阀门在我们的无尘室中进行清洁、装袋和标记,确保阀门符合这些严格的要求。  博雷阀门用于UPW抛光解决方案、存储和分配系统中,包括晶圆清洗、冲洗、表面处理、湿法蚀刻、溶剂流程和化学机械平坦化。

超纯水
去离子水

博雷的解决方案包括

去离子水

去离子(“DI水”或“脱盐水”)意味着去除水中的离子。去离子水(DI水、DIW或去脱盐水)通常是脱盐水/DM水的同义词,是指几乎去除了所有矿物离子的水,如钠、钙、铁和铜等阳离子,以及氯化物和硫酸盐等阴离子。去离子水是去除了所有矿物质离子的99%,从而成为无细菌纯净水的水。去离子水通常是使用带电的离子交换过程生产的,如离子交换树脂罐(也称为混合去离子罐或离子交换树脂罐系统)。  在半导体制造厂,处理一块300毫米的晶圆需要超过6000加仑的去离子水(DI)。每生产一加仑去离子水需要4-6加仑的自来水原水。

博雷的解决方案包括

水回收

水管理对半导体行业至关重要。在半导体制造业中,工厂依靠超纯水(UPW)进行晶圆加工。使用后,UPW水作为污水从系统中排出。排放的污水通常含有危险化学品和金属离子,如氰化物、吡唑、食人鱼酸、过氧硫酸和其他有毒化合物。由于污水中的毒性,必须对其进行处理成为干净的水,然后重新使用或者从晶圆厂排出。用于水回收、污水处理、循环使用和排放的博雷阀门经过现场验证。
水回收罐
洞见

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Acris® PFA带衬蝶阀

Acris PFA带衬蝶阀具有无与伦比的抗腐蚀、抗渗透和抗微生物污染能力,可实现最大的纯度和可靠性,并且维护量最小。Acris全PFA带衬蝶阀为双向零泄漏密封而设计,是关键应用的高性能解决方案。美国制造。

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博雷经过性能测试的产品符合全球多项认证与认可标准,包括英国劳埃德船级社(Lloyd's Register)、UL、ABS和其他机构。

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